موضوع پايان نامه: Monte Carlo Simulation of Roughening During Thin Film Plasma Etchingنويسنده:Angelikopoulos Panagiotisسال :2006زبان : انگليسيتعداد صفحات : 81حجم فايل:3.13 مگابايتفصلها:The Importance of Surface roughnessRoughness CharacterizationsPrevious WorkDry isotropic etching using reactive neutralsIon enchanced etchingAn Etching model using Inhibitors روش مونت كارلو يكي از روشهاي محاسباتي جهت شبيه سازي فرايندهاي فيزيك مي باشد و كاربرد فراواني دارد. موضوع اين پايان نامه كارشناسي ارشد درباره شبيه سازي فرايندهاي پلاسما مي باشد.
موضوع پايان نامه: Monte Carlo Simulation of Roughening During Thin Film Plasma Etchingنويسنده:Angelikopoulos Panagiotisسال :2006زبان : انگليسيتعداد صفحات : 81حجم فايل:3.13 مگابايتفصلها:The Importance of Surface roughnessRoughness CharacterizationsPrevious WorkDry isotropic etching using reactive neutralsIon enchanced etchingAn Etching model using Inhibitors روش مونت كارلو يكي از روشهاي محاسباتي جهت شبيه سازي فرايندهاي فيزيك مي باشد و كاربرد فراواني دارد. موضوع اين پايان نامه كارشناسي ارشد درباره شبيه سازي فرايندهاي پلاسما مي باشد.